特徴:耐酸化性、耐フッ素性、広く耐化学薬品性があり、高いクリーン性を備えています。
用途:半導体および液晶製造装置で、腐食性化学薬品とプラズマに晒される動作環境
対象装置:CVD装置、PVD装置、エッチング、洗浄装置
製品番号:T19、T83、T315、T110、TG160、TG170
特徴:耐酸化性、耐フッ素性、広く耐化学薬品性があり、高いクリーン性を備えています。
用途:半導体および液晶製造装置で、腐食性化学薬品とプラズマに晒される動作環境
対象装置:CVD装置、PVD装置、エッチング、洗浄装置
製品番号:T19、T83、T315、T110、TG160、TG170
